【明報文章】光刻機是製造晶片的核心設備,全球90%的高階晶片生產都使用荷蘭的ASML公司的設備。早在2018年,美國為了遏制中國晶片業發展,向荷蘭政府施壓,停止ASML向中國出口先進光刻機。去年底ASML的CEO接受訪問時表示,美國禁止EUV(極紫外光)光刻機出口中國,導致中國晶片技術落後西方10至15年。不過,他同時指出華為和合作伙伴,正積極開發EUV曝光技術。 相關字詞﹕中國 晶片 光刻機 輝灑自如 黃錦輝